一种半导体集成电路用清洗液及其生产工艺

一种半导体集成电路用清洗液及其生产工艺，属于集成电路清洗液技术领域。该半导体集成电路用清洗液包括如下重量份原料：无水乙醇30‑50份、异丙醇10‑20份、N，N－双羟乙基十二烷基酰胺5‑15份、二氯甲烷5.2‑6.2份、1，4‑丁二醇4.5‑6.5份、吸附剂4.3‑6.5份；该半导体集成电路用清洗液由制备A液、制备B液、混合等步骤制得，其中制备了一种吸附剂，使用凹凸棒土为原料，带有季铵盐的改性剂与其结合，改性后的凹凸棒土带有亲油基团与季铵盐基团，可以带走微生物与油污，利用该吸附剂制备的清洗液具有优异的吸附能力。

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