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图纹面的照相制版工艺 如印刷工艺 半导体器件加工工艺、其所用材料、所用原版、所用专用设备专利技术11

时间:2020/4/12 17:07:25 点击:

  核心提示:001 图形尺寸校正装置和图形尺寸校正方法002 高耐热性负型光敏树脂组合物003 用于夹层绝缘膜的光敏组合物及形成带图形夹层绝缘膜的方法004 形成防反射膜的组合物005 使印刷电路板曝光的装置00...
001 图形尺寸校正装置和图形尺寸校正方法
002 高耐热性负型光敏树脂组合物
003 用于夹层绝缘膜的光敏组合物及形成带图形夹层绝缘膜的方法
004 形成防反射膜的组合物
005 使印刷电路板曝光的装置
006 投影光学系统、微影方法、曝光装置及使用此装置的方法
007 激光退火的制程光罩以及利用激光退火形成多晶系膜层的方法
008 涂料组合物
009 蚀刻组合物
010 凸起物和间隔物的形成及用于形成它们的辐射敏感树脂组合物
011 光敏树脂组合物及其用途
012 一种精密可调定位装置
013 抗蚀剂组合物
014 形成和修正具有间隙缺陷的光刻版的方法
015 光掩膜及修补缺陷的方法
016 微接触印刷方法
017 中间掩模版保持器和中间掩模版的组件
018 曝光装置和定位方法
019 一种化学放大型正光刻胶组合物
020 蚀刻用组合物及蚀刻处理方法
021 图形形成材料、以及图形形成装置和图形形成方法
022 正性光刻胶的制作方法
023 球表面带有永久性图文的金属制品的制备方法及金属地球仪
024 一种应用于光学光刻系统的孔径盘
025 提高曝光直线的标准影像对数斜率的方法
026 具有可变快门的曝光机台及其曝光方法
027 光掩模微尘清除器及光掩模微尘清除程序
028 采用光刻和干刻制造碳纳米管多层图案的方法
029 光刻机成像质量的检测方法
030 载置台装置及曝光装置
031 图形形成方法和半导体器件的制造方法
032 确定光刻装置的投影系统的像差的方法
033 光刻装置,器件制造方法和可变衰减器
034 具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料及其抗蚀剂成像法
035 可聚合组合物,聚合物,抗蚀剂及蚀刻方法
036 用于中间层电介质的光敏组合物和形成图案化中间层电介质的方法
037 将衬底在工作台上对齐的方法
038 制作金属相片的方法
039 抗蚀材料以及利用该材料形成图案的方法
040 正型抗蚀剂组合物
041 正型抗蚀剂组合物
042 薄膜工件的切割方法
043 图形曝光方法以及图形曝光装置
044 一种调焦调平检测装置
045 光刻设备及器件制造方法
046 曝光装置
047 曝光装置及方法
048 曝光装置及器件制造方法
049 光刻装置和器件制造方法
050 曝光装置及其曝光方法、校正方法
051 激光绘图装置、激光绘图方法以及光掩模的制造方法
052 光刻设备和设备制造方法
053 正相抗蚀膜的剥离方法、曝光用掩模的制造方法以及抗蚀剂剥离装置
054 光致抗蚀剂剥离剂组合物
055 用于将图案转印到物体的设备
056 用于喷砂保护层的光聚合树脂组合物
057 活性能量射线敏感性树脂组合物、活性能量射线敏感性树脂膜以及使用该膜 
形成图...
058 用于制造曝光结构的方法和装置
059 用于小线条印刷的光刻方法
060 剥离液
061 有中间检查薄膜层的改进的光学掩模
062 网板印刷用金属掩模版
063 平版印刷版原版
064 化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物
065 旋涂材料层的平坦化方法及光致抗蚀剂层的制造方法
066 光刻装置及其应用方法
067 使用干涉成像光刻法的部件优化
068 光刻胶剥离剂组合物
069 用于双层光刻的低硅排气抗蚀剂
070 激光掩模以及使用该激光掩模的结晶方法
071 利用高酸碱值浸润流体的浸润式微影技术的方法与系统
072 氰基金刚烷基化合物和聚合物和含有它们的光致抗蚀剂
073 产生模拟曝光工具成像性能模型的方法、装置和程序产品
074 光刻装置和器件制造方法
075 光刻装置、照明系统和用于旋转强度分布的光学元件
076 光刻装置及器件制造方法
077 平版印刷装置和器件制造方法
078 多层分划板
079 193nm抗蚀剂
080 用于对衬底侧面进行布线的光刻方法
081 电子符合型中文光学并行自动照相排字机
082 原子印章数控数显制版机
083 原子印章半自动立式制版照相机
084 液、固体感光性树脂版两用制版机
085 滚筒式照排机的同步装置
086 定位式拼版机
087 非接触式光刻曝光光学系统
088 光热制版机
089 数控光电刻版机
090 光印绘图笔
091 连晒机单片微电脑控制箱
092 自动光学照排机
093 液体树脂版制版机
094 感光版制版机
095 普通绘图仪用笔式光绘装置
096 重氮复印机差动式分离装置
097 多功能感光树脂制版机
098 晒图机自动卷图装置
099 多规格彩色相片扩放附加装置
100 减压真空导入装置
101 光刻机的自动调焦装置
102 大面积紫外光刻(曝光)机的光学系统
103 动态光栅刻划机的自动调焦装置
104 多光束激光转镜式光学扫描系统
105 银盐印版制版机
106 印刷电路板底片光绘仪
107 彩色放大校色打样机
108 光学套版投映装置及装有该装置的影象套版机
109 一种节能型感光树脂版晒版机
110 一种重氮复印机显影用橡胶管
111 多功能便携式照相制版机
112 冷光源晒版机
113 绘图专用曝光孔头
114 一种晒图机中熏筒的温度自动控制系统
115 多功能制版机
116 明暗室照相制版一体机
117 非接触式编码曝光头
118 曝光装置
119 一种多用途照相制版机
120 重氮复印机显影装置分流式压力刮板
121 多功能快速拷贝制版机
122 多用途树脂制版机
123 轻便节能晒版箱
124 网版印刷自动制版设备
125 台式连晒机
126 大型晒版机
127 一种简易竖卧式投影、照相、制版机
128 放大照相复印制版机
129 图文影像同步光学套版合成设备
130 制版机
131 深亚微米X射线光刻装置
132 一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模
133 一种夹板式X光光刻对准装置
134 万能快速制版机
135 铝版基平印预涂双面感光版
136 一种接近式缩小光刻曝光台
137 重氮复印机显影部分手动控制装置
138 垂直式蚀刻机的PC板传动装置
139 一种制版清洗工艺中的洗刷装置
140 触持阴极离子束刻蚀机
141 带有环尺的掩模版
142 一种制版工艺中的冲洗装置
143 一种制版工艺中的曝光装置
144 一种紫外(i线)投影光刻光学透镜系统
145 无氨自动分离重氮复印机
146 多功能拷贝机
147 光刻机环形光栅离轴照明光学系统
148 亚微米光刻机的调焦装置
149 亚微米光刻机光栅衍射同轴对准装置
150 光刻机相位光栅离轴照明光学系统
151 分辨力自增掩模板
152 双面PS版感光层涂布装置
153 彩色显示管或彩色显像管曝光设备上的滤光片活动装置
154 一种制版清洗工艺中洗版刷的驱动机构
155 激光双光束全息制版仪
156 一种制版机台面装置
157 感光性树脂版制版机洗版机构
158 用于地图注记的感光胶片
159 大面积步进扫描式曝光机
160 制版机双气室两段式高速真空吸气装置
161 新型的网板制版机
162 制造印章印面的曝光装置
163 热上光固化分切装置
164 台式曝光烘干装置
165 彩色喷墨打印用PVC背喷透明胶片
166 亚微米光刻机光学预对准装置
167 投影光刻成像滤波装置
168 一种干涉光刻多光束形成系统
169 超高分辨率超高速激光全息刻录机
170 高质量光学积分器件
171 一种用于X射线光刻的相移掩模
172 全自动PS版烘版机
173 激光光绘机自动上片装置
174 基板曝光装置
175 日光曝晒制版装置
176 曝光机的电路板对位装置
177 曝光机曝光框的掀启装置
178 等量光扫平版晒版机
179 曝光机的能量积算控制器
180 曝光机的浮动下框装置
181 曝光机紫外线灯反射罩的装置
182 曝光机的近似平行光控制增益结构
183 电路板输送制程挡水装置
184 光阻剥离装置
185 一种专用于微流控芯片制作的光刻机
186 一种光罩盒的承载件
187 电路板蚀刻机输送装置
188 曝光设备的冷却装置
189 环保水溶性柔版曝光洗版机
190 单面防焊曝光机
191 一种新型的掩模板设计制作结构
192 氧化铁光刻掩膜版
193 印刷电路板显影机除泡装置
194 一种用于珂罗版印刷的印版
195 光扫描式超高速激光全息刻录机
196 2.5英寸×5英寸UT1倍光刻版
197 图形发生器
198 黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台
199 数字全息两次曝光位相差放大装置
200 曝光工序工作版遮光装置
201 铝塑复合版基预涂感光版
202 一种圆柱面光栅光刻刻划机
203 一种微细光束紫外光源
204 可避免电荷效应所导致电子束偏移的光罩母片
205 透明喷墨打印胶片
206 具有双嵌附层的减光型相移光罩
207 蚀刻系统及其纯水添加装置
208 基于紫外半导体光源的桌面光造型装置

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